预估2027-2030国产EUV光刻机成功

从华为近一年的发布会和新品手机海报详情介绍都听不到看不到制造工艺几纳米的情况来看，目前的制造工艺还是受制于人，没有取得突破，只能低调做事，不敢大肆宣传，不然以中国人爱吹牛的习惯早就公布于天下了，但是从19年被制裁到2025年已经过去了五六年，这几年国家实力客观是在不断增长的，预估很可能就在近一二年EUV极紫外光取得突破，但是突破了不代表就成功了，光刻机是用来生产芯片的，可能还需要二三年的测试改进能够以较高良率稳定工作才算成功，成功了距离ASML的最先进光刻机和最先进工艺应该还有几年的差距，最终可能会在2035年左右达到ASML水平同时半导体制造工艺与TSMC相仿（2035年TSMC应该改为CSMC了！！！）。