1、深圳新凯来主攻EUV光刻，而上海宇量升则主攻DUV光刻，至于上海微电子不知道主攻啥
2、国产光刻应该在2025年及以后逐渐大规模使用，但是水平和稳定性可能若干年后才能赶上ASML
3、芯片工艺会随着设备国产化普及化逐渐提高，但是要达到目前2-3nm水平应该还需要数年。
期待国产光刻机进步和发展，这样国产芯片会越来越好，合肥手机抵押欢迎你
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